• 里程碑!IBM宣布造出全球首颗2nm EUV芯片
  • 核心指标方面,IBM称该2nm芯片的晶体管密度(MTr/mm2,每平方毫米多少百万颗晶体管)为333.33,几乎是台积电5nm的两倍,也比外界预估台积电3nm工艺的292.21 MTr/mm2要高。
  • 紫光展锐发布新5G芯片 采用当下最高规格6nm EUV工艺
  • 2月26日,紫光展锐发布了新一代5G SoC虎贲T7520,其最大的亮点在于采用了当下芯片最先进的6nm EUV工艺。虎贲T7520是紫光展锐第二代5G SoC产品,其在技术工艺、通信能力、AI、视觉能力、续航能力,安全性六大方面进行了提升。
  • 追赶台积电,三星开始批量生产6nm EUV芯片
  • 三星已经开始批量生产基于极紫外(EUV)技术的6nm芯片,希望缩小其与晶圆厂商台积电差距。三星的6nm产品将提供给高通,同时与前者合作的企业高管也透露“6nm产品已经交付给北美的大型企业客户。”
  • AMD的RX 5500 XT显卡芯片或由三星7nm EUV代工
  • 按理来说,AMD的7nm GPU芯片跟7nm CPU处理器一样都是台积电代工,不过RX 5500 XT显卡可能有所不同,此前就有传闻称AMD也跟三星达成了合作协议,由他们代工Navi 14核的GPU芯片,也就是RX 5500 XT系列,还有移动版Radeon Pro 5500M,苹果MBP 16使用的也是这款芯片。
  • 中芯国际称7nm EUV光刻机问题已解决 研发步入正轨
  • 在半导体工艺进入10nm节点之后,制造越来越困难,其中最复杂的一步——光刻需要用到EUV光刻机了,而后者目前只有荷兰ASML阿斯麦公司才能供应。中芯国际去年也订购了一台EUV光刻机,日前该公司表示与ASML之间已解决光刻机的问题,EUV技术研发步入正轨。
  • 三星公布全球首颗7nm EUV芯片Exynos 9825
  • 距离三星Note10发布会还有不到一天的时间,现在三星正式发布了Exynos 9825。这款SoC采用了三星的7纳米EUV工艺,可将晶体管性能提高20- 30%,同时耗电量减少30- 50%。
  • 投资数十亿美元,英特尔要用EUV造7nm芯片
  • 英特尔正准备在D1X 工厂加大对7nm EUV光刻工艺的研发,这座工厂位于美国俄勒冈州,晶圆厂扩建通常需要数十亿美元,而EUV光刻的大规模采用预计会增加额外成本。

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