台积电2纳米制程良率表现优异，已遥遥领先三星和英特尔

（AI云资讯消息）据报道，台积电的2纳米制程取得突破性进展，这家芯片巨头似乎正计划继续主宰未来半导体市场。

随着2纳米良率表现优异，台积电有望再次称霸芯片制造领域。需要说明的是，台积电多年来始终主导着全球芯片制造市场。从5纳米制程开始，该公司就逐步拉开与竞争对手的差距，随后在3纳米时代进一步巩固优势。这主要得益于台积电率先采用创新制造工艺，并凭借雄厚的研发实力，始终压制三星和英特尔晶圆代工部门的追赶势头。根据最新报道，台积电2纳米制程良率已突破稳定量产门槛，遥遥领先于竞争对手。

据报道，台积电2纳米制程当前良率已达60%，遥遥领先于三星目前的40%。值得关注的是，台积电2纳米工艺堪称当前市场评级最高的解决方案，这也解释了为何英伟达、苹果和AMD等巨头纷纷预定其生产线。AMD已正式宣布，下一代EPYC威尼斯服务器处理器将采用台积电2纳米制程，成为业界首个公开确认采用该技术的厂商。

至于三星，尽管最早在业界采用GAA（环绕式栅极）晶体管技术，这家韩国巨头却未能取得预期成效。不过值得注意的是，据称三星2纳米制程也取得了进展，其良率正稳步提升。三星有望成为台积电之外的第二大供应商，但这取决于哪家公司能率先实现稳定量产。就目前形势而言，台积电显然保持着显著领先优势，而随着良率持续改善，这一领先地位很可能会继续保持。